国際交流助成(前期) 公募

2021年度 国際交流助成(前期)公募のご案内

2021年度 国際交流助成( 前期 )の公募は、2020年10月1日~12月20日を予定しています。
応募手続き等は、 国際交流助成 募集要項をご覧ください。

1. 助成対象

エレクトロニクスおよび情報工学の分野で、人間と機械の調和を促進するための研究活動を行なう研究者の海外派遣、特に国際会議での論文発表および短期在外研究のための海外派遣に対し、応募者本人に助成します。 「人間と機械の調和を促進する」とは、人間重視の視点に立った科学技術の健全な発展に寄与したい、という願いからきているものです。上記の範囲で、科学技術を人間にとって最適なものとするための、若手研究者による萌芽的な基礎研究活動の一環としての国際交流を歓迎します。ことに、渡航経験の少ない若手からの応募を期待します。

2. 助成金額と件数

  1. 国際会議発表  400千円以下 / 件  
  2. 短期在外研究  700千円以下 / 件

国際会議発表と短期在外研究を合わせて10件程度

国際会議発表では、国際会議参加のための費用を助成対象とします。 短期在外研究では、30日以上90日以下の滞在と渡航を助成対象とします。またその期間内の同一渡航先での国際会議参加のための費用を含むことも可能です。

注:記載の金額は1件当たりの直接経費を示します。間接経費(管理費)は含みません。

3. 間接経費(管理費)

本助成では、申請額(直接経費+間接経費)の20%を上限とし、 貴機関の規定等に定められた金額を申請することが可能です。 貴機関の規定等で申請額の20%を超える間接経費が定められている場合は、直接経費と調整してください。

申請額(直接経費+間接経費)の上限は下記のとおりです。
    国際交流(発表) 500千円
    国際交流(在外) 875千円

注1:申請書シート[エクセル]に間接経費の記入のない場合、間接経費の助成はありません。また申請締切後に遡及することはできません。
注2:申請書シート[エクセル]では、間接経費は申請額の20%以内で記入することができます。

4. 応募資格

  1. 日本国内に居住する40歳以下(申請日の満年齢)の研究者とし、国籍・所属機関を問いません。研究者とは、助成対象期間に研究機関に所属し研究に従事する者、もしくは博士後期課程(または相当)に在学する者。
  2. 短期在外研究では(1)項に加えて、5年以上日本国内に居住する研究者であること。
  3. 同一または重複内容で、既に公的機関や他財団等から助成金や補助金を受けていないこと。また、受ける予定のないこと。
    ※“受ける予定”とは、既に公的機関や他財団等からの助成が決定している場合を指します。この場合は応募をご遠慮ください。

5. 募集期間、助成対象期間および助成金交付時期

募集期間:
2020年10月1日~12月20日(承諾書郵送は最終日の消印有効)
助成対象期間:
2021年4月1日~9月30日(日本出発日)
助成金交付時期:
2021年4月の予定
助成金受取方法:
機関事務経理部門にて収支の管理が可能な受取り方を原則とします

6. 申請書類請求および問合せ先

当財団ウェブサイトから所定様式をダウンロードし、電子申請にて応募してください。

〒600-8234 京都市下京区油小路通塩小路下る南不動堂町11番地
公益財団法人 立石科学技術振興財団 事務局
TEL:075-365-4771 FAX:075-365-3697
E-mail: info@tateisi-f.org